فتورزیست ها در صنعت چاپ به مدت یک قرن استفاده می شدند. در سال 1920 کاربرد وسیعی در صنعت مدارات چاپی یافتند. در سال 1950 صنعت نیمه هادی این تکنولوژی را برای ساخت ویفر بکار برد. در اواخر 1950 فتورزیست مثبت و منفی برای استفاده در نیمه هادی ها معرفی شدند. فتورزیست در واقع قلب فرآیند ماسک گذاری است.
فتورزیست هم برای کاربردهای عمومی و هم برای کاربردهای خاص ساخته می شوند. آنها به منظور پاسخ به طول موج های مشخصی از نور و به منابع مختلف نور تنظیم شده اند. فتورزیست ها به منظور چسبیدن به سطوح خاصی درست می شوند و دارای مشخصات شار حرارتی ویژه ای هستند.
این خصوصیات از نوع، کمیت و شیوه مخلوط کردن عناصر شیمیایی تشکیل دهنده آن ناشی می شود.
در واقع چهار عنصر اصلی در فتورزیست وجود دارد: پلیمرها ، حلال ها ، ماده حساس به نور و مواد افزایشی
پلیمرهای حساس به نور
عناصری که در خاصیت حساس به نور بودن فتورزیست دخالت دارند، در واقع پلیمرهای حساس به انرژی و نور هستند. پلیمرها گروه هایی از مولکول های سنگین و بزرگ هستند که شامل کربن، هیدروژن و اکسیژن هستند.
پلاستیک در واقع فرمی از پلیمر است. رزیست هایی که اغلب استفاده می شوند طوری طراحی شده اند که به منابع نور ماوراء بنفش و لیزر پاسخ می دهند. که به آنها رزیست های نوری گفته می شوند. مابقی به اشعه ایکس و پرتو الکترونی پاسخ می دهند.
حلال ها
بیشترین حجم فتورزیست را حلال تشکیل داده است. در واقع حلال است که رزیست را به شکل مایع در آورده و امکان به کاربردن لایه ای از آن را روی سطح ویفر فراهم کرده است.
مواد حساس به نور
به رزیست ها به منظور کنترل واکنش و یا ایجاد واکنش، پلیمر اضافه می شود. رزیست های منفی در معرض رنج معینی از طیف ماوراء بنفش پلیمرایز می شوند.
مواد افزودنی
به منظور رسیدن به نتایج مطلوب، در انتهای پروسه مواد افزودنی گوناگون به رزیست اضافه می شود. این مواد افزودنی در رزیست منفی می تواند رنگ باشد که باعث افزایش خاصیت چسبندگی می شود، و اشعه های نور را در رزیست کنترل می کند.
این آموزش بیش از ۳ سال قبل ارسال شده و اکنون در لیست به‌روزرسانی‌های سایت قرار دارد. اگر پیشنهاد یا انتقادی برای بهبود آموزش دارید، خوشحال می‌شیم به ما اطلاع بدهید.